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    大功率LED二次光學(xué)設(shè)計(jì)

       
        發(fā)布日期:2008-09-15         
    閱讀:89     
     
     

    作為21世紀(jì)的節(jié)能新光源—半導(dǎo)體照明技術(shù)迅速發(fā)展,其在顯示,景觀照明等方面應(yīng)用很廣泛。半導(dǎo)體LED若要作為照明光源,目前LED照明光源的光通量與熒光燈等通用性光源相比,還有一定差距。因此,LED要在照明領(lǐng)域發(fā)展,關(guān)鍵是要將其發(fā)光效率、光通量提高至現(xiàn)有照明光源的等級(jí)。要實(shí)現(xiàn)這目的,首先要提高LED本身的質(zhì)量,要研制高功率LED器件,另外要對(duì)LED照明器具進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì),提高LED的使用質(zhì)量。因此研究大功率LED光源二次光學(xué)配光設(shè)計(jì),滿足大面積投光和泛光照明配光需求尤為迫切。通過(guò)二次光學(xué)設(shè)計(jì)技術(shù),設(shè)計(jì)外加的反射杯與多重光學(xué)透鏡及非球面出光表面,可以提高器件的取光效率。

    非成像光學(xué)理論起源于二十世紀(jì)六十年代中期,1966年,Hinterberger 和Winston 在發(fā)表的一篇提高太陽(yáng)能收集效率的文獻(xiàn)中首次提出“非成像光學(xué)”(Non.imaging Optics)一詞。非成像光學(xué)應(yīng)用主要目的是對(duì)光能傳遞的控制。然而成像并不被排除在非成像設(shè)計(jì)之外。非成像光學(xué)需要解決的兩個(gè)主要輻射傳遞的設(shè)計(jì)問(wèn)題是使傳遞能量最大化并且得到需要的照度分布。這兩個(gè)設(shè)計(jì)領(lǐng)域通常被簡(jiǎn)單的稱為集光和照明。

    單芯片LED面光源的尺寸一般為1mm×1mm,為達(dá)到一定的光通量要求,通常采用多芯片陣列,作為面光源使用,增加LED的排列也就增加了發(fā)光有效面積,同時(shí)也會(huì)增加光源的光學(xué)擴(kuò)展量,而光源的光學(xué)擴(kuò)展量不能超過(guò)系統(tǒng)的光學(xué)擴(kuò)展量。因此在選擇LED光源時(shí),要考慮LED的尺寸、排列、功率、發(fā)光角度等問(wèn)題,以實(shí)現(xiàn)較高的光能利用率。

    常用的LED面光源集光元件包括CPC(合拋物面聚光器)、TLP及TIR透鏡等,下面分別介紹其各自特點(diǎn)和設(shè)計(jì)時(shí)的考慮。

    1. CPC

     

    2. TLP
      光棒是照明系統(tǒng)中經(jīng)常采用的一種勻光光學(xué)元件,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,成本低,可以做成圓柱形、方形和錐形。

    3. TIR透鏡
      CPC和TLP在大功率LED光束整形過(guò)程中雖然有很高的集光效率,但是為了提高均勻度,會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)過(guò)長(zhǎng),為了有效縮小集光系統(tǒng)尺寸,采用由非球面構(gòu)成的TIR透鏡代替CPC和TLP集光器。
    a. 光能利用率
      系統(tǒng)的光能利用率用到達(dá)目標(biāo)屏幕上的光通量與LED光源所發(fā)出的光通量的比值來(lái)描述。計(jì)算公式如下:

    b. 均勻性
      將目標(biāo)屏分為m×n個(gè)方格,計(jì)算每個(gè)方格內(nèi)的照度B,求出各個(gè)區(qū)域與平均值之間的誤差S:

      樣本標(biāo)準(zhǔn)誤差S與樣本平均值mean(Bi)就是照度均勻性:

    c. TIR透鏡優(yōu)化設(shè)計(jì)流程

    對(duì)于面型比較復(fù)雜的TIR透鏡,由于現(xiàn)有的商業(yè)照明仿真軟件不具有優(yōu)化功能,因此編制LED專用優(yōu)化程序模塊,幫助設(shè)計(jì)者提高描光和照明系統(tǒng)設(shè)計(jì)的效率與成效,結(jié)合成像系統(tǒng)優(yōu)化軟件可完成高性能的復(fù)雜照明系統(tǒng)的設(shè)計(jì)。

     

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