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    氧化鋁及硅作為LED封裝基板材料的熱阻比較分析

       
        發(fā)布日期:2011-01-03         
    閱讀:87     
     
     
     

      高功率LED散熱一直是一個難題,困擾著LED技術(shù)人員,圖1為目前高功率LED封裝使用的結(jié)構(gòu),LED芯片會先封裝在導(dǎo)熱基板上,再打金線及封膠,這LED封裝結(jié)構(gòu)體具備輕巧,高熱導(dǎo)及電路簡單等優(yōu)點(diǎn),可應(yīng)用在戶外及室內(nèi)照明。基板的選擇中,氧化鋁 (Al2O3) 及硅 (Si) 都是目前市面上已在應(yīng)用的材料,其中氧化鋁基板因是絕緣體,必須有傳導(dǎo)熱設(shè)計(jì),藉由電鍍增厚銅層達(dá)75um;而硅是優(yōu)良導(dǎo)熱體,但絕緣性不良,必須在表面做絕緣處理。

     

     

     

    氧化鋁及硅作為LED封裝基板材料的熱阻比較分析

     


      圖1、LED封裝結(jié)構(gòu)

     

     

     


      氧化鋁基板及硅基板目前皆已應(yīng)用于高功率LED的封裝,由于LED發(fā)光效率仍有待提升,熱仍是使用LED燈具上必須解決的重要問題,因此LED導(dǎo)熱功能必須仔細(xì)分析。要分析導(dǎo)熱功能必須使用熱阻儀來量測,以下的分析將細(xì)分LED封裝體結(jié)構(gòu),包括芯片層,接合層及基板層,來分析每層熱阻,分析工具則是目前世界公認(rèn)最精確的T3Ster儀器。


      本文將簡單解析氧化鋁基板及硅基LED板封裝在熱阻的表現(xiàn) (T3Ster儀器實(shí)測),其中專有名詞定義如下:


      Rth: 熱阻,單位是 (oC/W),公式為T / KA;


      T: 導(dǎo)熱基板的厚度 (um);


      K: 導(dǎo)熱基板的導(dǎo)熱系數(shù) (W/mC);


      A: 導(dǎo)熱面積 (mm x mm)。

     

     

     

    氧化鋁及硅作為LED封裝基板材料的熱阻比較分析

     


      圖2、E公司氧化鋁基板的LED封裝熱阻分析

     

     

     


      將氧化鋁應(yīng)用在LED封裝主要是因?yàn)檠趸X材料高絕緣性及可制作輕小的組件,然而,氧化鋁基板應(yīng)用在電子組件,會因?yàn)檠趸X材料導(dǎo)熱系數(shù)低(約20K/W),造成高熱阻。圖2為T3Ster 熱阻儀測試E公司氧化鋁基板封裝LED( LED area: 1 x 1 mm; LED emitter: 3.15x3.5 mm)) 的結(jié)果,在25 oC環(huán)境溫度下測試時,各封裝層的熱阻如下:


      1、Chip: 2 oC/W


      2、Bonding layer : 3 oC/W


      3、氧化鋁基板: 20 oC/W (高熱阻, 基板制作不佳)


      當(dāng)175mA小電流通入在1 x 1 mm²的LED芯片上,氧化鋁基板因熱阻的溫升為10.5oC(=20x175mAx3.0V), 熱不易傳導(dǎo)出LED芯片;當(dāng)350mA電流通入在1 x 1 mm²的LED芯片上, 氧化鋁基板因熱阻的溫升為23oC(=20 x 350mAx3.3 V),此時氧化鋁基板會無法將熱傳導(dǎo)出LED芯片,LED芯片會產(chǎn)生大量光衰; 而當(dāng)500 mA大電流通入在1 x 1 mm²的LED芯片上時,氧化鋁基板因熱阻的溫升大約為36 oC(20 x (500 Ax3.6 V),此時氧化鋁基板也會無法將熱傳導(dǎo)出LED芯片,LED芯片會快速光衰。因此,LED芯片封裝若選擇氧化鋁基板,因其熱阻高,封裝組件只適合使用在低功率(~ 175 mA, 約0.5W)。

     

     

     

    氧化鋁及硅作為LED封裝基板材料的熱阻比較分析

     


      圖3、R公司氧化鋁基板的LED封裝熱阻分析

     

     

     


      圖3為T3Ster 熱阻儀測試氧化鋁基板封裝LED( LED area: 1 x 1 mm; LED emitter: 3.15x3.5 mm)) 的結(jié)果,在25 oC環(huán)境溫度下測試時,各封裝層的熱阻如下:


      1、Chip : 2 oC/W


      2、Bonding layer : 1.5 oC/W


      3、氧化鋁基板 : 4.7 oC/W (氧化鋁基板厚度: 400um, 銅層厚度75um)


      當(dāng)175mA小電流通入下,其基板因熱阻溫升為4.7 oC; 當(dāng)電流來到 350mA,基板溫升為6.9 oC,當(dāng)500mA電流通入時,基板溫升大約為8.1oC, 及當(dāng)700mA大電流通入下,基板因熱阻溫升大約為11oC.


      當(dāng)氧化鋁基板溫升大于8 o C, 此時氧化鋁基板會不易將熱傳導(dǎo)出LED芯片,LED芯片會快速光衰。 LED芯片封裝在氧化鋁基板,封裝組件只適合始使用功率 (~ 350mA, 約 1watt)。

     

     

     

    氧化鋁及硅作為LED封裝基板材料的熱阻比較分析

     


      圖4、VisEra硅基板LED封裝熱阻分析

     

     


      應(yīng)用以硅為導(dǎo)熱基板的LED封裝,如圖4所示,在3.37 x3.37 mxm2 的小尺寸面積上,具有快速導(dǎo)熱的性能, 可大幅解決因?yàn)槭褂醚趸X造成的高熱阻問題。以精密的量測熱阻設(shè)備 (T3Ster)量測到的熱阻值,在25 oC環(huán)境溫度下測試時,各封裝層的熱阻如下:


      1、Chip: 1 oC/W


      2、Bonding layer: 1.5 o C/W


      3、Si substrate: 2.5 o C/W


      當(dāng)大電流 (700 mA) 通入在1 x 1 mm² 的LED芯片上, 硅基板因熱阻的溫升為 6. 3 oC (=2.5 x 700mA x 3.6 V),硅基板會快速將熱傳導(dǎo)出LED芯片,LED芯片只會有小量光衰。硅藉由優(yōu)良導(dǎo)熱性能將熱傳導(dǎo)出LED芯片,LED芯片會只會有小許光衰。因此,LED芯片封裝在硅基板上適合于大功率使用( ~700 mA,約 3 W)。因?yàn)楣杌逯谱骷癓ED封裝在硅基板,技術(shù)難度非常高,目前只有少許公司具備。硅作為LED集成封裝基板材料的熱阻低于氧化鋁基板材料, 應(yīng)用于大功率時, 硅基板為好的選擇。


      總體LED封裝熱阻經(jīng)T3Ster實(shí)測結(jié)果比較如下:


      LED Si 封裝:VisEra : 5 o C/W


      LED氧化鋁,E公司: 25 o C/W


      LED 氧化鋁封裝,R公司:8.2 o C/W

     

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